Eridan
Concept : Compact magnetron sputtering tool with load lock chamber
하드웨어 사양
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- 챔버 크기, 직경
- 1,300mm (기타 챔버 사이즈는 고객의 요청에 따라 사용 가능)
- 카트리지형
- 자동 핸들링 로봇 장착 Load Lock 챔버
- 마그네트론 음극
- 셔터가 달린 듀얼 로타블 (고객의 요청에 따라 이중 평면도 사용 가능, 마그네트론 chathode의 개수는 고객의 요청에 따라 결정됨)
- Sputtering Mode
- Reactive, Non-Reactive, Metal 모드
- 코팅 레이어 수
- 200개 이상 레이어
- 셔터가 있는 RF
- 플라스마 소스
- Substrate Holder
- 유성 회전 홀더
- 사용 가능한 Substrate Size
- 최대 200mm 직경
- 펌핑시스템
- 건식펌프를 이용한 터보분자펌프 (고객의 요청에 따라 극저온 펌프를 사용할 수 있음)
- 난방온도
- 최대 350°C
- 광학모니터링 시스템
- 광대역감시 (사용 가능한 파장 범위는 220nm~2,200nm)
- 시스템 제어
- 완전 자동 제어
- 셔터가 달린 듀얼 로타블 (고객의 요청에 따라 이중 평면도 사용 가능, 마그네트론 chathode의 개수는 고객의 요청에 따라 결정됨)
** 자세한 내용은 vtc1@vac-tec.co.kr 로 문의 하십시오.
